High Quality Silicon Carbide Epitaxial Growth by Novel Fluorosilane Gas Chemistry For Next Generation High Power Electronics

تفاصيل كتاب High Quality Silicon Carbide Epitaxial Growth by Novel Fluorosilane Gas Chemistry For Next Generation High Power Electronics

التصنيف: رسائل ماجستير ودكتوراه -> علم الحاسوب

حجم الملف: 6,747 KB
نوع الملف: pdf
أضيف بواسطة: Y4$$3R N3T
بتاريخ: 19-08-2018
عدد مرات التحميل: 1
مرات الزيارة: 438

عرض جميع الكتب التي أضيفت بواسطة: Y4$$3R N3T